歷史沿革

概論
	使用Pellicle最主要有兩種目的，一是增加晶片生產良率，另一是減少光罩於使用時之清潔和檢驗。Pellicle是一個薄膜展開在框架上，以保護光罩避免微塵的污染。 今日Pellicle在大部分的IC製造者的製程及高解析投射成像系統中已經變成一個不可缺少的元件，包含諸如薄膜磁頭的製造，LCD平面顯示器及微電子系統等等之應用。
Pellicle的功能
	在曝光製程中，任何在Pellicle上之微塵於晶圓上之成像將會失焦，因此僅會產生相當低影響的模糊陰影於晶圓的影像上。沒有Pellicle的保護，光罩將很容易污染上微塵並形成一個失真的影像在晶圓上，如此即產生一個瑕疵在晶片上。在未使用Pellicle的時期，光罩可能得需要每日清洗及檢驗，結果在清洗的過程中，光罩很容易被環境污染或破壞，造成良率低及高報廢成本。 Pellicle在光學投射系統的功能如圖一所示。 一旦Pellicle被正確地貼覆於光罩上，光罩面將可免於被微塵粒子所污染。原先光罩的品質因此也得以保存，只要經過簡短的檢驗Pellicle及光罩表面即可確保光罩之品質。
	Figure 1: The Use of a Pellicle

• 客戶滿意
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為確保精確的品質控管程序，每一個產品將設定序號以利能容易地追蹤到每個產品的生產過程。除了有效的產品品質追蹤方式外，微相公司擁有超過二十年的產品製程及檢測經驗，因此對於產品品質的控管及保證方面也有顯著的貢獻。

生產潔淨
以多年持續在生產方面的改善及CLASS 1等級潔淨室的設備，微相公司已經開發出光罩護膜的專業生產程序。以自動化的改善、製程能力的提升、潔淨室的升級及精密的生產製造儀器，來確保生產過程中的完全潔淨效果。除此之外，每個光罩護膜的元件(諸如貼合膠、底膠、框架之陽極處理及塗層)已經經過多年的持續改善，可確保產品穩定性。

運送潔淨
基於不屈不撓在產品潔淨方面的專注，微相公司已經把生產包裝及處理方面的改善措施落實於每日的生產作業中並伴隨著嚴格的品質控管程序。為維持客戶收到產品時之完整及潔淨，在正常的產品運送及處理程序下，防止微塵之污染是相當重要的步驟。微相公司之光罩護膜的專利包裝以內塗膠的方式可以有效的黏附任何產品運送過程中所產生的游離微塵，而且在產品框架的內面也塗佈膠體來防止微塵的污染。此外，微相公司也開發出一種簡易的包裝及產品貼合系統來減少產品使用時人為碰觸的機會。

靜置潔淨
為確保產品靜置時的潔淨，微相公司採用含氟化合物的抗反射塗佈在生產的製程中，此層塗佈不僅能改善薄膜穿透率外，也可以使微塵能很容易地從薄膜上吹除。